libcats.org
Главная

Chemical Vapor Deposition of Tungsten and Tungsten Silicides for VLSI/ ULSI Applications

Обложка книги Chemical Vapor Deposition of Tungsten and Tungsten Silicides for VLSI/ ULSI Applications

Chemical Vapor Deposition of Tungsten and Tungsten Silicides for VLSI/ ULSI Applications

This monograph condenses the relevant and pertinent literature on blanket and selective CVD of tungsten (W) into a single manageable volume. The book supplies the reader with the necessary background to bring up, fine tune, and successfully maintain a CVD-W process in a production set-up. Materials deposition chemistry, equipment, process technology, developments, and applications are described.
Популярные книги за неделю:

О физической природе шаровой молнии

Автор:
Категория: science, science, exact
Размер книги: 5.03 Mb

Ключ к сверхсознанию

Автор:
Категория: Путь к себе
Размер книги: 309 Kb

Древо жизни

Автор:
Категория: Путь к себе
Размер книги: 1.70 Mb

Здоровье надо созидать

Автор:
Категория: Здоровье
Размер книги: 363 Kb
Только что пользователи скачали эти книги:

Eric Flint - Grantville Gazette Volume 09(v2.0)

Автор:
Размер книги: 575 Kb

Сочинения

Автор:
Размер книги: 656 Kb

Horse

Автор:
Размер книги: 1.57 Mb