libcats.org
Главная

Chemical Vapor Deposition of Tungsten and Tungsten Silicides for VLSI/ ULSI Applications

Обложка книги Chemical Vapor Deposition of Tungsten and Tungsten Silicides for VLSI/ ULSI Applications

Chemical Vapor Deposition of Tungsten and Tungsten Silicides for VLSI/ ULSI Applications

This monograph condenses the relevant and pertinent literature on blanket and selective CVD of tungsten (W) into a single manageable volume. The book supplies the reader with the necessary background to bring up, fine tune, and successfully maintain a CVD-W process in a production set-up. Materials deposition chemistry, equipment, process technology, developments, and applications are described.
Популярные книги за неделю:

Ключ к сверхсознанию

Автор:
Категория: Путь к себе
Размер книги: 309 Kb

Древо жизни

Автор:
Категория: Путь к себе
Размер книги: 1.70 Mb

Здоровье надо созидать

Автор:
Категория: Здоровье
Размер книги: 363 Kb

The Meme Machine

Автор:
Категория: psychology, memetics, sociology
Размер книги: 1.72 Mb
Только что пользователи скачали эти книги: