libcats.org
Главная

Chemical Vapor Deposition of Tungsten and Tungsten Silicides for VLSI/ ULSI Applications

Обложка книги Chemical Vapor Deposition of Tungsten and Tungsten Silicides for VLSI/ ULSI Applications

Chemical Vapor Deposition of Tungsten and Tungsten Silicides for VLSI/ ULSI Applications

This monograph condenses the relevant and pertinent literature on blanket and selective CVD of tungsten (W) into a single manageable volume. The book supplies the reader with the necessary background to bring up, fine tune, and successfully maintain a CVD-W process in a production set-up. Materials deposition chemistry, equipment, process technology, developments, and applications are described.
Популярные книги за неделю:

О физической природе шаровой молнии

Автор:
Категория: science, science, exact
Размер книги: 5.03 Mb

Ключ к сверхсознанию

Автор:
Категория: Путь к себе
Размер книги: 309 Kb

Древо жизни

Автор:
Категория: Путь к себе
Размер книги: 1.70 Mb

Здоровье надо созидать

Автор:
Категория: Здоровье
Размер книги: 363 Kb
Только что пользователи скачали эти книги:

Стефан Цвейг. Амок

Автор:
Размер книги: 106 Kb

Братья Стругацкие

Автор:
Категория: society, culture, society, memoirs
Размер книги: 6.33 Mb

Handbook of Food Enzymology

Автор: , Автор: , Автор:
Размер книги: 13.24 Mb

The Rosebud Burglar

Автор:
Категория: fiction
Размер книги: 419 Kb

Praying the Names of Jesus: A Daily Guide

Автор:
Категория: Christian
Размер книги: 540 Kb